真空電鍍小常識

文章出處：佛山市南海區(qū)喜有沃不銹鋼有限公司人氣：-發(fā)表時間：2016-11-05

PVD技術是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜，統(tǒng)稱為物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition），就是PVD。平常所說的“IP”（ion plating）離子鍍膜，是因為在PVD技術中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強調(diào)離子的作用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。與傳統(tǒng)化學鍍膜方法相比，PVD有很多優(yōu)點：如對環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝；對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強，膜厚均勻。

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